第9回分

MOSFETとMOSトランジスタはどう違うのか?

同じものですね。

MOSトランジスタは基本的にどのような分野で用いられているのか?

最近は、半導体の中の能動素子は、ほとんどすべてMOSトランジスタ、 といっても過言ではないほど、ほとんどあらゆるところ、ですね。

nとp中のホールと電子は干渉し合わないのか?

なかなか鋭い質問です。 詳細は専門書に譲りますが、nとpの接合部分で、 ホールと電子が対消滅することで空間電荷が発生し、 それが電子・ホールの移動を抑制する向きに働きます。

「チャネルはよりp型になる」の「よりp型」とはどういうことか?正孔が多いということか?

そういうことです。

Vtがどこの電圧なのかわからない。

チャネルが反転するための最小のVGS、と考えてください。

VGSが小さいときIDは流れないが、かけたVのエネルギーはどこで消費されるのか?

電流が流れていませんから、外部の電源はエネルギー(電力)を 供給していないことになります。

ピンチオフ点ではD点のn型に含まれる電子は移動しないのか?

加わる電界の向きが逆ですから、移動しません。

ピンチオフ点が現れるとIDが一定になるという理由がわからない。

チャネルのS-D間の距離が、ピンチオフ点-D間の距離よりも十分大きい、と 仮定できる場合は、ピンチオフ点が移動しても、 チャネルの残りの部分にかかるほぼ電界は一定です。 またVDSのほとんどはピンチオフ点-D間にかかるため、 そこに強い電界が発生し、ピンチオフ点を出た電子は、 ほとんどそのまま、すぐにD領域に移動します。 そのため、VDSが増加しても、IDはほぼ一定となります。

何故「ピンチオフ」というのか?

さあ、なんででしょうね・・・

p型をn型に変換するものがあるなら、n型をp型に変換するものもあるのか?

反転、のことですね。 もちろん逆にn型領域に負の電圧を加えれば、 p型に反転します。

Gと半導体の距離が近いほど、IDが流れやすく、Vtは小さくなるか?

同じVGSに対しては、IDは大きくなりますね。 Vtは、チャネル領域の電子等の密度(厳密にはそれを供給する 不純物の濃度)に依存しますが、Gとチャネルの間の距離には依存しません。

VGS-ID特性、VDS-ID特性の関係式は存在するのか?あれば一般的にどのような形にの式になるのか?

ある条件の下での近似式(グラジュアル・チャネル近似)、は存在します。 興味のある人は調べてみてください。

どこからgmや1/rdがでてきたのか?各係数をこのようにすると定めたからか?

定義、ですね。

gmを相互コンダクタンス、rdをドレイン抵抗というのは何故?

定義、といえばそれまでですが、 gmは、ゲート電圧(vgs)と、それに比例する電圧制御電流源である ドレイン電流(id)の比で、単位がコンダクタンス(抵抗の逆数)になるので、 相互コンダクタンス、と呼びます。 rdは、ドレインの電圧(vds)と、そこに流れる電流(id)の比なので、 ドレイン抵抗、と呼びます。

前回の移送形発振回路の計算が上手くいかなかったので、どこかに解説をupしてくれませんか?

個別にご相談ください。
戻る